
含有直径超过 50 nm 纳米孔的薄膜的表征提出了重大挑战,特别是在部署基于吸附的技术时。 由于样品制备和无损检测的限制,传统的体积物理吸附或压汞方法在薄膜中的适用性有限。在这种情况下,椭圆孔隙度测定法利用其对薄膜的光学敏感性,代表了一种可行的替代方法。 对于依赖于诸如水的挥发性化合物的毛细管冷凝的现有装置,适用性通常限于<50nm的孔尺寸。 在本研究中,我们介绍了两种高摩尔质量碳氢化合物吸附剂,即乙苯和正壬烷。 这些吸附剂在提高物理吸附测量的精确度方面表现出巨大的潜力,超出介孔性(即,>50nm)。 具体来说,对于正壬烷,适用性可扩展至 80 nm 孔径。 我们的测量指南提出了一种非破坏性、快速(<60 分钟)、低压(<0.03 bar)的方法来研究纳米多孔薄膜,该薄膜具有对不同结构体系的潜在适应性。