联系我们获取详情与报价
获取专家建议，为您研发需求量身定制解决方案
用于监测超薄栅极电介质的新电气计量学涉及利用电晕放电对热化离子进行受控沉积，以及利用电晕放电对介电响应进行非接触式测量。 开尔文或门罗型探头。 我们应用这种方法来测量薄至 1 nm 的氧化物中的漏电流与氧化物场 (J–F) 特性。 为了在此类氧化物中存在直接隧道漏电流的情况下测量电氧化物厚度，我们采用了最近推出的 SASS Tox（自调节稳态）方法，这是一种替代电晕技术。 漏电流和厚度测量均应用于超薄 SiO2 的晶圆级测绘。
