薄层电阻的高分辨率测绘揭示了注入机或退火的不均匀性

发布到: SEMI Seminars, July 17 to 19, 2007, San Francisco, USA, West Coast Junction Technology Group, USJ metrology seminar

年: 2007

作者: C. Kohn, E. Don, P. Tüttő, A. Pap, T. Pavelka

sheet resistanceultra shallow implantsjunction photovoltage technique

• Semilab 开发的 JPV 测量技术

• 简单的操作理论• 样品测量

• JPV 系统的性能变化

• 附加晶圆图• 摘要

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