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本文介绍了使用结光电电压 (JPV) 方法获得的结果，该方法针对组合注入退火工艺的表征进行了优化。 人们发现该工具特别适合测量超浅结片电阻率和泄漏。 在这项工作中，作者还评估了与以前的设备设计相比，提高空间分辨率的好处。 当前技术的 USJ 监控晶圆是使用 BF2 或砷注入，然后进行尖峰退火制成的，并且研发 USJ 晶圆是通过等离子体浸入，然后进行激光退火制成的。 所有晶圆均使用非接触式 JPV 测量工具进行测量。 JPV 测量获得的结果与破坏性离线分析测量工具相关。