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深沟槽 0.18 μm 功率半导体器件位错产生的微光致发光成像
发布到:
ASMC 2018 Annual Conference
年:
2018
作者:
L. Jastrzebski, G. Nadudvari, D. T. Cseh, L. Roszol, G. Molnar, I. Lajtos
Micro-Photoluminescence Imaging
Dislocation Generation
Semiconductor Devices
Deep Trenches
Wafer Fabrication
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