用于监测薄栅氧化层可靠性的新 COCOS（半导体电晕氧化物表征）方法

发布到: ALTECH 99: analytical techniques for semiconductor materials and process characterization

年: 1999

作者: M. Wilson, J. Lagowski, A. Savtchouk, L. Jastrebski, J. D'Amico, D.K. DeBusk, A. Buczkowski

COCOSInterface structuresurface treatmentCorona effectVoltage current curvereliabilityOxide layerDefect detectionComparative studyExperimental resultWaveform

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