先进钝化电介质中 PID 敏感性和界面陷阱密度的监测技术

发布到: China SoG Silicon and PV Power Conference, June 2013, Suzhou, China

年: 2013

作者: M. Wilson, A. Findlay, J. Lagowski, J. D’Amico, A. Savtchouk

passivation dielectricinterface trap densityPID susceptibility

联系我们获取详情与报价

获取专家建议，为您研发需求量身定制解决方案