使用 PMR-C 技术对 Si 和 SiC 晶圆中的离子注入过程进行多功能监控

光调制反射 (PMR) 技术广泛用于监测 Si 晶圆中的离子注入过程，Semilab Ltd 正在不断开发适用于 SiC 晶圆的工具。在这项工作中，我们展示了我们的 Semilab PMR-2200C 设备测量的结果，该设备主要用于离子注入 SiC 晶圆监测。 此外，同一设备还适用于有效监控离子注入硅晶圆。 在适当的测量条件下，对于 SiC 和 Si，可以在宽剂量范围内观察到 PMR 信号与注入剂量（例如损伤量）的单调趋势。 因此，PMR是一种有效的非破坏性、非接触式工具，用于对注入晶圆进行高通量工艺监控。