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探索 Semilab En-Vision 系统的独特功能、应用和优势。
En-Vision 是一种非接触式、非破坏性测量系统，专门用于快速、精确地检测纳米级埋藏缺陷，这些缺陷位于硅表面下方，传统检测工具看不到，影响器件性能和产量。 En-Vision 系统的显着优势之一是其增强的视觉能力，可以进行先进的缺陷检测。 En-Vision 提供无与伦比的测量图像质量，使缺陷检测更容易、更准确，从而将缺陷检测的所有多功能应用可能性提升到新的水平。
En-Vision 系统可以帮助监控注入过程，检测硅中外延层生长的缺陷，并定位沟槽附近的晶体缺陷。
在硅样品的注入过程中，晶体结构可能会被损坏，即使在退火恢复后，范围末端缺陷也可能保留在受影响的体积中。 借助 En-Vision，可以监控植入过程以检测这些缺陷并提供有关其分类的详细信息。 借助 En-Vision 系统，可以检测块状微缺陷 (BMD)，并获取有关其密度以及径向和垂直分布的详细信息。
En-Vision 也是 EPI 缺陷监测的出色解决方案，因为检测硅外延层生长缺陷的传统方法通常非常耗时且具有破坏性。 然而，En-Vision 提供了一种高效的非接触式、非破坏性方法，可以快速且经济高效地识别这些缺陷。
En-Vision 还通过监测不同深度的材料来提供有关 DTI 引起的缺陷密度严重性的信息，从而帮助检测深沟槽隔离中的缺陷并提供材料结构表征。
凭借其独特的功能，En-Vision 可以在各种应用中实现更准确、更高效的缺陷检测，无论是检测注入缺陷、体微缺陷 (BMD)、外延缺陷还是深沟槽隔离。 这使得 En-Vision 计量系统成为半导体行业的游戏规则改变者。
如果您想了解更多有关 Semilab En-Vision 系统及其结果的信息，可以深入阅读以下出版物：