Lehighton-2000RS シート抵抗・移動度測定

動的成膜によるリモートプラズマ窒化シリコン膜を用いた低抵抗率n型およびp型結晶シリコンにおける極めて低い表面再結合速度

著者: Shubham Duttagupta, Fen Lin, Marshall Wilson, Matthew B Boreland, Bram Hoex, Armin G Aberle

トピック: corona-voltage metrology; Non-Contact Measurement; photovoltaics; silicon defect density; Silicon Nitride; surface passivation; surface recombination velocity