microPL, JPV, photo-modulated reflectance2023
Siにおけるイオンチャネリングおよびコインプラントがイオン飛程と損傷に及ぼす影響:PL、SRP、SIMSおよびMCモデルによる研究
著者: Samu Viktor, Kerekes Árpád, Pongrácz Anita, Durkó Zsolt
トピック: microPL; JPV; photo-modulated reflectance
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SRP-2100シリーズは、半導体ウェーハにおける高精度拡がり抵抗プロファイリング(SRP)およびドーパント濃度解析のためのSemilabのフラッグシップソリューションです。シリコンおよび化合物半導体(PCIVオプション使用時)に対応し、プロセスモニタリング、故障解析、デバイス特性評価のための全自動・高精度デプスプロファイリングを実現します。
SRP-2100 / SRP-2100i 拡がり抵抗プロファイリング
著者: Samu Viktor, Kerekes Árpád, Pongrácz Anita, Durkó Zsolt
トピック: microPL; JPV; photo-modulated reflectance
著者: E. E. Najbauer, L. Sinkó, Sz. Biró, Z. Durkó, P. Basa
トピック: carrier density; epitaxial layer; semiconductor; Silicon (Si); SRP-2100; SRP; FTIR REFLECTOMETRY
SRP-2100 / SRP-2100i 拡がり抵抗プロファイリング