COCOS（Corona Oxide Characterization of Semiconductor）メトロロジー：物理的原理と応用

掲載誌: ASTM Conference on Gate Dielectric Oxide Integrity, 1999

年: 1999

著者: M. Wilson, J. Lagowski, A. Savtchouk, L. Jastrzebski, J. D'Amico

COCOScoronaInterface Trapstress induced leakage currentiron contaminationContact Potential Difference (CPD)

情報と価格についてはお問い合わせください

専門家のアドバイスと研究ニーズに合わせたソリューションを入手してください