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シリコン中の銅汚染が薄い酸化膜の絶縁破壊に及ぼす影響
掲載誌:
Journal of the Electrochemical Society 146 1999) 2258
年:
1999
著者:
D.A. Ramappa, W.B. Henley
copper contamination
breakdown
reliability
thin silicon gate oxide
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