先進的プリゲート洗浄の評価

掲載誌: Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing, Proceedings of the Sixth International Symposium Oct.1999), Vol. 99-36, pages 59-68

年: 1999

著者: C. Cowache, P. Boelen, I. Kashkoush, P Besson, F. Tardif

pre-gate cleaningparticle removalmetal removalsurface microroughnesssurface passivation

情報と価格についてはお問い合わせください

専門家のアドバイスと研究ニーズに合わせたソリューションを入手してください