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超浅接合はマイクロおよびナノエレクトロニクスデバイスで広く使用されるようになっており、製造プロセスをモニタリングするための新しい測定手法が必要とされています。アニール前の光変調反射測定およびアニール後の接合光起電力ベースのシート抵抗測定は、イオン注入プロセスとアニールプロセスの両方を特性評価するのに適した非接触・非破壊技術です。試験により、これらの手法が互いに一貫性があることが検証され、両者を併用することで、イオン注入工程およびアニール工程に起因する欠陥を分離できることが示されました。