注入レベル分光法：シリコンにおける新しい非接触汚染分析技術

マイクロ波光伝導減衰を励起光強度の関数として測定しました。再結合ライフタイムデータを分析する新しいアプローチを用いて、シリコンウェーハ中の異なる金属汚染物質の定性的な面内分布マップを作成できる実験手法を提示します。