非接触表面電荷プロファイラを用いたSi表面上のFe汚染モニタリング

掲載誌: Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device, 1995

年: 1995

著者: P. Roman, I. Kashkoush, R.E. Novak, E. Kamieniecki, J. Ruzyllo

Surface Charge Profiler (SCP)Fe concentrationSi surfacesNon-Contact Measurement

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