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エピタキシー向け非接触抵抗率測定の活用:Surface Charge Profiler法
掲載誌:
International Symposium on High Purity Silicon
年:
1998
著者:
A. Danel, F. Tardif, G. Kamarinos, M.C. Nguyen
high purity silicon
Surface Charge Profiler (SCP)
Doping measurements
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