Lehighton-2000RS 시트 저항 및 이동도 측정

낮은 저항률 n형 및 p형 결정질 실리콘에서 동적 증착된 원격 플라즈마 실리콘 질화막을 이용한 초저 표면 재결합 속도

저자: Shubham Duttagupta, Fen Lin, Marshall Wilson, Matthew B Boreland, Bram Hoex, Armin G Aberle

주제: corona-voltage metrology; Non-Contact Measurement; photovoltaics; silicon defect density; Silicon Nitride; surface passivation; surface recombination velocity