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산화물 전위 및 표면 광전압 측정을 기반으로 하는 차세대 모니터링 도구는 플라즈마 손상, 특히 유전체 전하 축적, 방사선 손상 및 중금속 오염에 대한 실시간 비접촉 진단을 제공합니다. 이 접근 방식은 테스트 구조가 아닌 재사용 가능한 약 1000 Å 두께의 산화막 모니터 웨이퍼를 사용합니다. 이 기술은 플라즈마 손상과 플라즈마 장비 특성의 상관관계를 파악하는 강력한 전체 웨이퍼 매핑 결과를 제공합니다.