비접촉 표면 전하 프로파일러를 이용한 Si 표면의 Fe 오염 모니터링

게시 위치: Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device, 1995

년도: 1995

저자: P. Roman, I. Kashkoush, R.E. Novak, E. Kamieniecki, J. Ruzyllo

Surface Charge Profiler (SCP)Fe concentrationSi surfacesNon-Contact Measurement

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