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비정질 및 결정질 전기변색 WO3 박막은 착색 과정에서 상당히 다른 광학 특성을 나타냅니다. 본 연구에서는 용액법으로 제조된 비정질 및 결정질 전기변색 WO3 필름을 X선 회절, 주사전자현미경 및 투과전자현미경 기술을 사용하여 특성화했습니다. 타원측정 파라미터를 맞추기 위해 날카로운 인터페이스를 갖춘 이중층 모델이 확립되었습니다. 결과는 양성자가 결정성 WO3 필름보다 비정질 필름을 더 우선적으로 삽입된다는 것을 보여줍니다. 비정질 및 다결정 WO3 필름의 굴절률은 감소하는 반면 착색 과정에서 H+를 삽입하면 흡수계수가 증가합니다. 그러나 후자의 이 흡수계수는 착색 과정에서 비정질 WO3에 비해 주입된 H+ 이온에 훨씬 더 민감합니다. 즉, 결정질 WO3 필름의 굴절률 변조는 633nm에서 약 53%인 반면, 비정질 필름의 굴절률 변조는 동일한 파장에서 약 15%입니다. 결정질 WO3에 대한 Drude형 자유 전자 모델과 비정질 WO3에 대한 작은 폴라론의 호핑 메커니즘을 사용하여 차이점을 자세히 설명합니다. 이러한 결과는 착색 과정을 더 잘 이해하고 전기 변색 장치를 설계하는 데 매우 도움이 됩니다.