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본 논문에서는 프로브 침투의 영향을 배제하고 4점 프로브(4pp) 시트 저항을 정확하게 측정할 수 있는 신규 기법을 제시합니다. 또한 전기적으로 활성인 표면 도펀트 밀도(NSURF)는 침투, 손상 및 오염이 없는 단일 EM 프로브를 사용하여 직접 측정됩니다. EM 프로브에는 두 가지 유형이 있으며, 하나는 정전용량-전압(CV) 응용을 위한 것이고 다른 하나는 전류-전압(IV) 응용을 위한 것입니다. EM 프로브 기반 4pp는 소스-드레인 확장(SDE) 구조와 p/n 초박막 접합(USJ) 구조를 측정할 수 있음이 확인되었습니다. 기존 4pp는 약 30~40 nm 이상의 깊이에 대해서만 적용 가능한 것으로 나타났습니다. 선량 및 시트 저항의 변동은 이온 주입 및 어닐링 공정에 대한 중요한 정보를 제공하며, 이는 강력한 특성 분석 도구로 활용될 수 있습니다.