
含有直徑超過 50 nm 奈米孔的薄膜的表徵提出了重大挑戰,特別是在部署基於吸附的技術時。 由於樣品製備和無損檢測的限制,傳統的體積物理吸附或壓汞方法在薄膜中的適用性有限。在這種情況下,橢圓孔隙度測定法利用其對薄膜的光學敏感性,代表了一種可行的替代方法。 對於依賴諸如水的揮發性化合物的毛細管冷凝的現有裝置,適用性通常限於<50nm的孔尺寸。 在本研究中,我們介紹了兩種高摩爾質量碳氫化合物吸附劑,即乙苯和正壬烷。 這些吸附劑在提高物理吸附測量的精確度方面表現出巨大的潛力,超出介孔性(即,>50nm)。 具體來說,對於正壬烷,適用性可擴展至 80 nm 孔徑。 我們的測量指南提出了一種非破壞性、快速(<60 分鐘)、低壓(<0.03 bar)的方法來研究奈米多孔薄膜,該薄膜具有對不同結構系統的潛在適應性。