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一種新技術已經開發出來，可以提供 USJ 結構的活化摻雜劑分析，而無需複雜的基於泊鬆的校正。 該技術已在薄至 25 nm 的 USJ 層上得到驗證。 這種測量技術的價值在於它消除了對遷移率變化的任何考慮，並允許人們專注於電激活的摻雜劑。 由於輪廓的形狀會影響裝置性能，因此這種測量將有助於優化製程開發。
