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用於監測超薄柵極電介質的新電氣計量學涉及利用電暈放電對熱化離子進行受控沉積，以及利用電暈放電對介電響應進行非接觸式測量。開爾文或門羅型探頭。我們應用此方法來測量薄至 1 nm 的氧化物中的漏電流與氧化物場 (J–F) 特性。為了在此類氧化物中存在直接隧道漏電流的情況下測量電氧化物厚度，我們採用了最近推出的 SASS Tox（自調節穩態）方法，這是一種替代電暈技術。漏電流和厚度測量均應用於超薄 SiO2 的晶圓級測繪。
