薄層電阻的高解析度測繪揭示了注入機或退火的不均勻性

發表於: SEMI Seminars, July 17 to 19, 2007, San Francisco, USA, West Coast Junction Technology Group, USJ metrology seminar

年: 2007

作者: C. Kohn, E. Don, P. Tüttő, A. Pap, T. Pavelka

sheet resistanceultra shallow implantsjunction photovoltage technique

• Semilab 開發的 JPV 測量技術

• 簡單的操作理論• 樣品測量

• JPV 系統的性能變化

• 附加晶圓圖• 摘要

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