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推出了一種新穎的光學反射測量解決方案,能夠在基於獨立便攜式前開統一 Pod (FOUP) 的緊湊型計量系統 Metrology-FOUP (M-FOUP) 系統中測量 300mm Si 晶圓上的平面、毯式薄膜。 透過展示代表製程設備典型日常鑑定的樣品上無圖案薄膜厚度的測量,展示了新儀器的關鍵應用。 提供了來自半導體生產工廠的特徵樣品的基準數據,並將測試結果與傳統(獨立)計量工具測量的結果進行比較。