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本文介紹了使用結光電電壓 (JPV) 方法獲得的結果，該方法針對組合注入退火製程的特性進行了最佳化。 人們發現該工具特別適合測量超淺結片電阻率和洩漏。 在這項工作中，作者還評估了與先前的設備設計相比，提高空間解析度的好處。 目前技術的 USJ 監控晶圓是使用 BF2 或砷注入，然後進行尖峰退火製成的，並且開發 USJ 晶圓是通過等離子體浸入，然後進行激光退火製成的。 所有晶圓均使用非接觸式 JPV 測量工具進行測量。 JPV 測量所獲得的結果與破壞性離線分析測量工具相關。