用於監測薄柵氧化層可靠性的新 COCOS（半導體電暈氧化物表徵）方法

發表於: ALTECH 99: analytical techniques for semiconductor materials and process characterization

年: 1999

作者: M. Wilson, J. Lagowski, A. Savtchouk, L. Jastrebski, J. D'Amico, D.K. DeBusk, A. Buczkowski

COCOSInterface structuresurface treatmentCorona effectVoltage current curvereliabilityOxide layerDefect detectionComparative studyExperimental resultWaveform

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