氧化製程監控製程偏差和污染對於實現先進積體電路的高性能和良率至關重要。 此外,監控技術必須能夠經常測量實際生產關鍵的薄膜,以最大限度地降低監控成本並最大限度地降低產品的風險。 介紹了用於在線監測超薄氧化物(小於 30 埃)的表面電荷分析儀 (SCA) 的方法和實驗結果。 SCA 可快速測量總氧化物電荷、界面陷阱密度、少數載子複合壽命和摻雜濃度,其靈敏度與氧化物厚度無關。 樣品晶圓上有意引入了退火、預清洗、氧化配方和晶圓基板的製程偏差。 SCA 偵測到了所有故意存在製程偏差的晶圓。 也估計了過程公差和 SCA 精度。 SCA 透過對超薄氧化物生產配方進行快速、可重複且具成本效益的測量來滿足線上製程監視器的要求。