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非接觸式電氣計量可對 IC 製造過程中的電介質進行快速且節省成本的監控。 這種電暈-開爾文測量技術已進入成熟階段，矽 IC 工廠中安裝了約 400 個工具。 我們討論了拓寬監測參數範圍並提高這些測量精度的最新進展。 我們也討論了目前正在將電暈-開爾文計量擴展到小至 30μm x 30μm 的微尺度測量。 這為產品晶圓而非昂貴的製程監控晶圓的非接觸式電氣測試開闢了新的可能性。 使用閃存 ONO 結構和電暈感應編程和擦除來說明微觀測量。