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探索 Semilab En-Vision 系統的獨特功能、應用與優勢。
En-Vision 是一種非接觸式、非破壞性測量系統，專門用於快速、精確地檢測奈米級埋藏缺陷，這些缺陷位於矽表面下方，傳統檢測工具看不到，影響裝置性能和產量。 En-Vision 系統的顯著優勢之一是其增強的視覺能力，可進行先進的缺陷檢測。 En-Vision 提供無與倫比的測量影像質量，使缺陷檢測更容易、更準確，從而將缺陷檢測的所有多功能應用可能性提升到新的水平。
En-Vision 系統可以幫助監控注入過程，偵測矽中外延層生長的缺陷，並定位溝槽附近的晶體缺陷。
在矽樣品的注入過程中，晶體結構可能會被損壞，即使在退火恢復後，範圍末端缺陷也可能保留在受影響的體積中。借助 En-Vision，可以監控植入過程以檢測這些缺陷並提供有關其分類的詳細資訊。借助 En-Vision 系統，可以檢測塊狀微缺陷 (BMD)，並獲得有關其密度以及徑向和垂直分佈的詳細資訊。
En-Vision 也是 EPI 缺陷監測的出色解決方案，因為檢測矽外延層生長缺陷的傳統方法通常非常耗時且具有破壞性。 然而，En-Vision 提供了一種高效的非接觸式、非破壞性方法，可以快速且經濟高效地識別這些缺陷。
En-Vision 還透過監測不同深度的材料來提供有關 DTI 引起的缺陷密度嚴重性的信息，從而幫助檢測深溝槽隔離中的缺陷並提供材料結構表徵。
憑藉其獨特的功能，En-Vision 可以在各種應用中實現更準確、更高效的缺陷檢測，無論是檢測注入缺陷、體微缺陷 (BMD)、外延缺陷或深溝槽隔離。這使得 En-Vision 計量系統成為半導體產業的遊戲規則改變者。
如果您想了解更多有關 Semilab En-Vision 系統及其結果的信息，可以深入閱讀以下出版物：