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激光退火是超浅结 (USJ) 的理想激活步骤。 但它会增加栅极电介质的界面陷阱 (Dit) 密度，导致 NBTI 可靠性下降。 因此，用电晕电荷计量学研究了退火条件的影响。 SiO2 被用作参考栅极电介质，并制定了恢复解决方案以减少激光诱导的 Dit。 但另一方面，回收可能会导致 USJ 降解，限制回收工艺条件的选择。 尖峰退火导致的 Dit 减少可以用 SiO2 和 SiON 的应力松弛来解释。 对于 HiK 栅极电介质，由于可能的化学相互作用和结晶，行为更加复杂。 可以通过尖峰退火和多扫描激光退火来完成恢复。 后者更适合USJ房产。
