利用臭氧去离子水生长的氧化硅层改善硅表面钝化

在存在和不存在使用臭氧去离子水形成的薄氧化硅 (SiOx) 层的情况下，研究了氮化硅 (SiNx)、氧化铝 (AlOx) 和 AlOx/SiNx 叠层的钝化质量。 寿命测量显示，在存在氧化物的情况下，AlOx/SiNx 堆栈的有效载流子寿命 (τeff) 约为 3ms。 低饱和电流密度 (Jo) 和界面陷阱密度 (D_it) 证实并解释了该样品的高 τ_eff。 由于场效应钝化和化学钝化，AlOx/SiNx 堆叠可以提供出色的表面钝化。 请注意，氧化物的存在对于实现良好的钝化也显示出至关重要的影响。