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展現 AFM 的力量：提升表面表徵！
技術領域不斷發展。 電晶體是現代電子產品的組成部分，尺寸已經縮小到奈米級，因此可以將數十億個電晶體堆疊到我們的日常設備中。
由於這一趨勢，業界對設備的缺陷和缺陷變得更加敏感，使得缺陷檢測和表面表徵現在比以往任何時候都更加重要。
憑藉其高解析度非光學成像技術，原子力顯微鏡 (AFM) 改變了表面分析。 在 Semilab，我們提供尖端的 Semilab AFM 產品系列，為表面表徵提供原子精度。 AFM 掃描儀可確保穩定性和掃描速率，從而實現奈米級材料的高品質粗糙度控制和缺陷分析。
AFM 改變遊戲規則的應用程式包括粗糙度檢查和缺陷檢查以及可選的 µPIT 整合。 透過 3D 表面影像分析粗糙度特徵可以更好地控制 CMP 和 EPI 成分等製程。 µPIT 和 AFM 結合，可實現精確缺陷檢測和表徵，從而獲得寶貴的品質控制見解。
Semilab AFM 系統將尖端技術和數十年的專業知識相結合，在使用者友善的環境中提供穩定、準確的效能。它們可以透過手動或機器人加載選項無縫整合到您的工作流程中，也可以用於研發目的。
透過 Semilab AFM 產品系列釋放 AFM 的真正潛力，提高您對材料的理解，以實現卓越的研究和製造，並了解最新產品 AFM-3000：
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