非晶铟镓锌氧化物溅射薄膜工艺沉积的椭圆光度研究

本文报告了通过光谱测量椭圆光度法进行的 InGaZnO 光学研究。 首先，分析不同模型、不同结构的拟合结果，选择最合适的模型。 Tauc–Lorentz 模型适用于厚度测量，但更复杂的模型可以更准确地提取折射率和消光系数。 其次，进行了不同的InGaZnO工艺沉积，以研究稳定性、沉积时间和均匀性的影响。 随着时间的推移，薄膜呈现出令人满意的光学稳定性。 InGaZnO 光学特性随沉积时间的变化与温度升高有关。 为了了解均匀性的行为，绘图测量与薄膜电阻率相关。 结果表明，温度和再溅射是影响 IGZO 均匀性的两种现象。