
含有直径超过 50 nm 纳米孔的薄膜的表征提出了重大挑战,特别是在部署基于吸附的技术时。 由于样品制备和无损检测的限制,传统的体积物理吸附或压汞方法在薄膜中的适用性有限。 在这种情况下,椭圆偏振孔隙率测定法利用其对薄膜的光学敏感性,成为一种可行的替代方案。 对于依赖于诸如水之类的挥发性化合物的毛细管冷凝的现有装置,其适用性通常限于小于50nm的孔尺寸。 在这项研究中,我们引入了两种高摩尔质量碳氢化合物吸附剂,即乙苯和n-壬烷。 这些吸附剂在提高中孔性(即>50nm)之外的物理吸附测量的准确性方面表现出巨大的潜力。 具体来说,使用n-壬烷,适用性可扩展至 80 nm 孔径。 我们的测量指南提出了一种无损、快速(<60 分钟)、低压(<0.03 bar)的方法来研究纳米多孔薄膜对不同结构体系的潜在适应性。