DLS-1100 深準位過渡分光法

DLS-1100は、半導体のR&Dおよび製造環境向けに設計されたハイエンドDLTSシステムです。精密な温度制御のための外部クライオスタットを搭載し、最高クラスの感度、完全自動化、高度なカスタマイズ性を備えており、製造ラボ、ファウンドリ、高スループット研究施設に最適です。